反滲透膜元件清洗條件
來源：上海純水設(shè)備??????2022/7/13 10:07:59??????點(diǎn)擊：
【上海純水設(shè)備】反滲透膜元件清洗條件
反滲透純水設(shè)備在正常運(yùn)行一段時(shí)間之后，膜元件會(huì)受到原水中存在的離子化合物以及難溶物質(zhì)的污染，常見的污染物有碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)物沉積。污染物的種類以及污染速度與進(jìn)水條件有關(guān)，如果早期不對(duì)污染情況采取措施，污染物將會(huì)在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件的性能。
如果純水設(shè)備在日常的運(yùn)行中，出現(xiàn)了以下現(xiàn)象，那么就要對(duì)反滲透膜進(jìn)行清洗：
1.系統(tǒng)產(chǎn)水流量下降10—15%；
2.系統(tǒng)脫鹽率下降1—2%或產(chǎn)水含鹽量明顯增加；
3.標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)壓差增加10—15%；
4.反滲透膜元件各段間的壓差增加明顯；上海反滲透純水設(shè)備 上海EDI純水處理設(shè)備 上海工業(yè)純水設(shè)備 上海超純水設(shè)備 上海純化水設(shè)備 上海實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備
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